O texto deverá ter extensão mínima de 20 (vinte) linhas e máxima de 40 (quarenta) linhas, com base no tema a seguir apresentado.

Leia, com atenção, o texto a seguir.

A necessidade de dispositivos cada vez menores é motivada pelo aumento da velocidade, menor dissipação de potência e custo. Isto é possível através dos avanços nos processos de fabricação, como na fotolitografia, que é uma técnica para transferência de padrões geométricos das diversas regiões que formam os dispositivos e interconexões elétricas existentes nos circuitos integrados. Para aprimorar esse processo, deve-se determinar parâmetros de maior relevância para fabricação de estruturas micrométricas, determinando possibilidades de melhoria nas etapas e aplicação de equipamentos para otimização desse processo.

Fioravante Junior, Nemer Paschoal. Caracterização e otimização dos processos de fotolitografia aplicados na fabricação de dispositivos micrométricos MOS e microssistemas. Dissertação de Mestrado. Unicamp – Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação, 2004.

Considerando que o trecho apresentado tem caráter meramente motivador, redija um texto dissertativo e (ou) descritivo a respeito da importância da fotolitografia na tecnologia de fabricação de microeletrônica. Aborde, necessariamente, os seguintes tópicos:

a) conceitos de fotolitografia;

b) etapas utilizadas no processo de fotolitografia;

c) técnicas de melhoria de resolução e do processo de fotolitografia.